国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例 适应大规模集成电路发展需要
(资料图片仅供参考)
国家知识产权局局长申长雨在新闻发布会上表示,将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。其中,修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要,助力芯片产业做大做强,服务数字经济更好发展。加强大数据、人工智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研究,助力相关领域创新发展。同时,积极参与知识产权国际规则制定,更好对接高标准国际经贸规则,助力高水平对外开放。(中国网)
关键词:
国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例 适应大规模集成电路发展需要
商业 2023-04-24 11:57:22
全球热文:中钢协姜维:房地产仍没有明显的复苏上升态势 钢铁需求大幅提升尚无动力
商业 2023-04-24 11:45:16
世界即时看!人社部:探索建立数字技术工程师认证制度 每年培养培训数字技术技能人员8万人左右
商业 2023-04-24 10:46:20
【环球播资讯】游戏股震荡反弹 电魂网络涨停
商业 2023-04-24 10:46:40
即日起山西太原市区禁止销售燃用高污染燃料
商业 2023-04-24 10:47:02
锂矿板块震荡回升 天齐锂业跌幅收窄
商业 2023-04-24 11:05:00 
营业执照公示信息


相关新闻